英特爾吃光初期 ASML High NA EUV 產能，但要獲青睞還有路要走
作者 | 發布日期 2024 年 05 月 08 日 9:00 | 分類 半導體 , 晶圓 , 晶片 line share Linkedin share follow us in feedly line share
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英特爾吃光初期 ASML High NA EUV 產能，但要獲青睞還有路要走

英特爾日前宣布，完成世界首套商用高數值孔徑（High NA）EUV 曝光機安裝，這套資約 3.5 億美元（約新台幣 112 億元）的龐然大物年底啟用，先訓練開發 Intel 18A 製程，之後量產 Intel 14A。

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