台積電暫不用 High NA EUV 曝光機，可能因一事後有所改變
作者 | 發布日期 2024 年 05 月 28 日 15:00 | 分類 公司治理 , 半導體 , 晶圓 line share Linkedin share follow us in feedly line share
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台積電暫不用 High NA EUV 曝光機，可能因一事後有所改變

外媒引用晶圓代工龍頭台積電說法報導，即使沒有使用 ASML 最新 High NA EUV 曝光機，台積電也能做出優秀的先進製程。High NA EUV 太貴，2026 年前購買沒有太大經濟意義，現在看來，台積電可能重新考慮，因台積電總裁魏哲家日前祕密訪問 ASML 總部。

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